振鑫焱光伏科技有限公司常年采购:---回收硅片,电池片,初级多晶硅,银浆布,单晶硅,多晶硅,太阳能电池,光伏组件,太阳能电池板,客户撤退,降级,库存,el,---测试,二手,旧,工程,拆卸,路灯,---回收价格,拆解电站,拆卸,胶合板,层压板,无边界晶体硅,多晶硅,单晶硅,实验板,---偿还,返工,光伏模块回收等。
影响因素
1 .频率
射频 pecvd 系统大都采用 50khz~13.56 mhz 的工业频段射频电源。较高频率( >;4mhz )沉积的氮化硅薄膜具有---的钝化效果和稳定性。
2 .射频功率
增加 rf 功率通常会--- sin 膜的。但是,功率密度不宜过大,超过 1w/cm2 时器件会造成---的射频损伤。
3 .衬底温度
pecvd 膜的沉积温度一般为 250 ~ 400 ℃ 。这样能---氮化硅薄膜在hf 中有足够低的腐蚀速率,并有较低的本征压力,从而有---的热稳定性和抗裂能力。低于 200 ℃ 下沉积的氮化硅膜,本征应力很大且为张应力,而温度高于 450 ℃ 时膜容易龟裂。
4 .气体流量
影响氮化硅膜沉积速率的主要气体是 sih4 。为了防止富硅膜,选择nh3/sih4=2~20 (体积比)。气体总流量直接影响沉积的均匀性。为了防止反应区下游反应气体因耗尽而降低沉积速率,通常采用较大的气体总流量,以---沉积的均匀性。
5 .反应气体浓度
sih4 的百分比浓度及 sih4/nh3 流量比,对沉积速率、氮化硅膜的组分及物化性质均有重大影响。
理想 si3n4 的 si/n = 0.75 ,而 pecvd 沉积的氮化硅的化学计量比会随工艺不同而变化,但多为富硅膜,可写成 sin 。因此,必须控制气体中的 sih4 浓度,不宜过高,并采用较高的 sin 比。除了 si 和 n 外, pecvd 的氮化硅一般还包含一定比例的氢原子,即 sixnyhz 或 sinx :h 。
6 .反应压力、和反应室尺寸 等都是影响氮化硅薄膜的性能工艺参数。
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影响因素
1. 温度
温度 t 越高,扩散系数 d 越大,扩散速度越快。
2. 时间
对于恒定源:时间 t 越长结深越深,但表面浓度不变。
对于限定源:时间 t 越长结深越深,表面浓度越小。
3. 浓度
决定浓度是因素:氮气流量、源温。
表面浓度越大,扩散速度越快。
4. 第三组元
主要是掺硼量对扩散的影响,杂质增强扩散机制。在二元合金中加入第三元素时,扩散系数也会发生变化。掺硼量越大,扩散速率越快。即电阻率越小,越容易扩散。
控制点
方块电阻,外观,单片均匀性,整管均匀性。
方块电阻: 表面为正方形的半导体薄层在电流方向所呈现的电阻。 r= 电阻率 *l/s, 对方块硅片,长度等于宽度,则 r= 电阻率 / 厚度,方块电阻~ ( 1/ ns*xj) ns :电化学浓度, xj :扩散结深。
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电池片丝网印刷技术
5 设备
对设备的要求有如下 3 点:
( 1 )工作台的平面度。印刷时电池片被吸附于工作台表面,如表面不平,在负压下电池片易裂,以 150mm 电池片为例,回收二手旧---,工作台的平面度不大于 0.02mm ;
( 2 )工作台重复定位精度。根据太阳能电池片的精度要求,工作台重复定位精度达到 0.01mm 即能满足工艺要求;
( 3 )印刷时丝网与工作台的平行度决定印刷膜厚度的一致性,根据使用要求,以 150mm 电池片为例二者平行度 0.04mm 。
电池片的平面度不大于 0.02mm ,表面粗糙度低于 1.6 。
6 结束语
太阳能电池印刷是电池片生产线的重要工序,对电池片的起着重要作用,太阳能电池印刷技术是一个有机的整体,是各种技术的组合,需要工艺---和设备---的协同工作:既要了解各个参数的特点,又要了解其相互的制约关系; 3 种印刷工序既有相同之处又有区别,需要针对不同工序的具体要求分。
降级---回收-----振鑫焱估价由苏州振鑫焱光伏科技有限公司提供。苏州振鑫焱光伏科技有限公司坚持“以人为本”的企业理念,拥有一支技术---的员工队伍,力求提供---的产品和服务回馈社会,并欢迎广大新老客户光临惠顾,真诚合作、共创美好未来。振鑫焱光伏科技——您可---的朋友,公司地址:苏州市吴中区产业园,联系人:孟先生。同时本公司还是从事太阳能板电池板回收,光伏板电池板回收,发电板电池板回收的厂家,欢迎来电咨询。
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关键词: 硅片回收/回收硅片 - 电池片回收电池片 - 多晶硅/单晶硅 - 太阳能电池板 - 光伏组件回收