振鑫焱光伏科技有限责任公---期购置:天价回收硅片,电池片,初中级多晶硅,银浆布,喀什拆卸组件,单晶硅,多晶硅,太阳电池,太阳能组件,太阳能光伏板,顾客撤离,退级,库存量,el,欠佳检测,2手,旧工程项目,拆装,道路路灯,拆卸发电厂,拆装,人造板,层压板,---限结晶硅,多晶硅,单晶硅,试验板,负债---,返修,太阳能发电控制模块收购等。
电池片各工艺流程危害要素及异常现象
一回清理危害要素
1.溫度
溫度过高,先就是说ipa不太好---,溫度一高,ipa的蒸发迅速,汽泡印就会随着出---,那样就---减少了pn结的合理总面积,反映加重,还会出---影片的飘浮,导致残片率的提升。可控性水平:调整设备的设定,能够---的调整溫度。
2.時间金字塔式随時间的转变:金字塔式慢慢冒出;表层上基础被小金字塔式遮盖,少数刚开始成才;金字塔式满布的绒面早已产生,仅仅尺寸不匀称,透射率也降至较为低的状况;金字塔式向外扩大企业兼并,容积慢慢澎涨,规格趋向平等,透射率略微降低。可控性水平:调整机器设备主要参数,能够---的调整時间。
3.ipa1.帮助氡气的释放出来。2.变弱naoh水溶液对硅片的浸蚀幅度,调整各向系数。纯naoh水溶液在高溫下对分子排序较为---的100晶面和较为高密度的111晶面毁坏较为大,el测试---拆卸组件回收,每个晶面被浸蚀而消溶,ipa---变弱naoh的浸蚀抗压强度,提升了浸蚀的各向---,有益于金字塔式的成型。酒精含水量过高,碱水溶液对硅水溶液浸蚀工作能力越来越太弱,各向---系数又趋向3。可控性水平:依据初次配液的含水量,及每一次大概耗费的量,来填补足量的液---,线性度不高。
振鑫焱光伏科技有限公司常年采购:---回收硅片,电池片,初级多晶硅,银浆布,单晶硅,多晶硅,太阳能电池,光伏组件,太阳能电池板,客户撤退,回收拆卸组件电话,降级,库存,el,---测试,二手,旧,工程,拆卸,路灯,拆解电站,拆卸,胶合板,层压板,无边界晶体硅,多晶硅,单晶硅,实验板,---偿还,返工,光伏模块回收等。
2. 短路电流
在一定的温度和辐照条件下,太阳电池在端电压为零时的输出电流,通常用 i sc 来表示。
将 pn 结短路( v=0 ),因而 if=0 ,这时所得的电流为短路电流 isc ,显然有: i sc = i l , i sc 与太阳电池的面积大小有关,面积越大, i sc 越大。 i sc 与入射光的辐照度成正比。
3. 功率点
在太阳电池的伏安特性曲线上对应大功率的点,又称佳工作点。
4. 工作电压
太阳电池伏安特性曲线上大功率点所对应的电压。通常用 v m 表示
5. 工作电流
太阳电池伏安特性曲线上大功率点所对应的电流。通常用 i m 表示
6. 转换效率
受光照太阳电池的大功率与入射到该太阳电池上的全部辐射功率的百分比。 η = v m i m / a t
p in 其中 v m 和 i m 分别为大输出功率点的电压和电流, a t 为太阳电池的总面积, p in 为单位面积太阳入射光的功率。
7. 填充因子
太阳电池的大功率与开路电压和短路电流乘积之比,通常用 ff 表示: ff = i m v m / i sc v oc
i sc v oc 是太阳电池的---输出功率, i m v m 是太阳电池的大输出功率,填充因子是表征太阳电池---劣的一个重要参数。
8. 电流温度系数
在规定的试验条件下,被测太阳电池温度每变化 1 0 c ,太阳电池短路电流的变化值,通常用 α 表示。对于一般晶体硅电池 α = +0.1%/ 0 c 。
9. 电压温度系数
在规定的试验条件下,被测太阳电池温度每变化 1 0 c ,太阳电池开路电压的变化值,通常用 β 表示。对于一般晶体硅电池 β = - 0.38%/ 0 c 。
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pecvd
pe 目的
在硅片表面沉积一层氮化硅减反射膜,以增加入射在硅片上的光的透射,减少反射,氢原子搀杂在氮化硅中附加了氢的钝化作用。
其化学反应可以简单写成 : sih 4 +nh 3 =sin:h+3h 2 。
基本 原理
pecvd 技术原理是利用低温等离子体作能量源,样品置于低气压下辉光放电的阴极上,利用辉光放电(或另加---体)使样品升温到预定的温度,然后通入适量的反应气体,气体经一系列化学反应和等离子体反应,在样品表面形成固态薄膜。 pecvd 方法区别于其它 cvd 方法的特点在于等离子体中含有大量高能量的电子,它们可以提供化学气相沉积过程所需的---能。电子与气相分子的碰撞可以促进气体分子的分解、化合、激发和电离过程,生成活性---的各种化学基团,因而---降低 cvd 薄膜沉积的温度范围,使得原来需要在高温下才能进行的 cvd 过程得以在低温下实现。
基本特征
1. 薄膜沉积工艺的低温化( < 450 ℃ )。
2. 节省能源,降低成本。
3. 提高产能。
4. 减少了高温导致的硅片中少子寿命衰减。
扩散方式
pe 设备有两类:平板式和管式。
按反应方式分为:直接式(岛津)和间接式( roth & rau )。
直接式:基片位于一个电极上,直接接触等离子体。
间接式:基片不接触激发电极。 在微波激发等离子的设备里,等离子产生在反应腔之外,然后由石英管导入反应腔中。在这种设备里微波只激发 nh3 ,而 sih4 直接进入反应腔。间接 pecvd 的沉积速率比直接的要高很多,这对---生产尤其重要。
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