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刻蚀工艺
刻蚀目的
将硅片边缘的带有的磷去除干净,避免 pn 结短路造成并联电阻降低。
刻蚀原理
采用干法刻蚀。采用高频辉光放电反应, 采用高频辉光放电反应,回收抛光片厂家,使反应气体---成活性粒子,如原子或各种游离基,这些活性粒子扩散到硅片边缘,在那里与硅进行反应,形成挥发性生成物四---硅而被去除。
化学公式: cf 4 +sio 2 =sif 4 +co 2
工艺流程
预抽,主抽,送气,辉光,抽空,清洗,预抽,主抽 ,充气。
影响因素
1. 射频功率
射频功率过高:等离子体中离子的能量较高会对硅片边缘造成较大的轰击损伤,导致边缘区域的电性能差从而使电池的性能下降。在结区(耗尽层)造成的损伤会使得结区复合增加。
射频功率太低:会使等离子体不稳定和分布不均匀,从而使某些区域刻蚀过度而某些区域刻蚀不足,导致并联电阻下降。
2. 时间
刻蚀时间过长:刻蚀时间越长对电池片的正反面造成损伤影响越大,时间长到一定程度损伤不可避免会延伸到正面结区,从而导致损伤区域高复合。
刻蚀时间过短:刻蚀不充分,没有把边缘鳞去干净, pn 结依然有可能短路造成并联电阻降低。
4. 压力
压力越大,气体含量越少,参与反应的气体也越多,刻蚀也越充份。
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美国是在废旧电池自然环境管理工作法律数较多较细的1个---家,不但创建了健全的废电池回收管理体系,并且创建了好几家废旧电池处理站,一起锲而不舍向群众开展主题教育,让群众主动地适用和相互配合废旧电池的收购工作中。
对废旧电池的综合利用应当有严苛的程序流程:
(1)置放---型的废旧电池回收桶;
(2)按时专职人员---搜集;
(3)充电电池归类;
(4)仓库归类并安全性存储;
( 5)集中化到必须总数后运到---处理站;
(6)解决运用---金属镉。
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stf 印制:
a 级:
标识要有虚印、粗印现象(字母线宽度应小于 0.22mm )但仍可辨识时作为 a 级。若标识存在缺印但仍可辨识时,按字母高度的 1/3 判定,缺失长度小于字母高度 1/3 。
b 级:
标识要有虚印、粗印现象,字母线宽度应小于 0.22mm ,但仍可辨识时,如实心“ p ”,若标识存在缺印但仍可辨识时,按字母高度的
1/3 判定,缺失长度小于字母高度 1/3 。
c 级:
若字母变形或无法辨识时直接降为 c 级。
新的标准与旧的相同
缺陷片:
1. 主栅线或副栅线或背电极或背电场超出 c 级降级片的要求时,但仍有利用价值的片子。
2. 由于存储不当造成成电极氧化时,直接以报废片处理
3. 仅印刷烘干而没有经过烧结的电池片,如果还有利用价值,则租铺位缺陷片处理
4. 完全未印制背电场的电池片作缺陷片处理。
5. 叠片仍有利用价值的作为缺陷片,如果全叠片则作为报废片处理。
云南回收抛光片厂家团队在线服务由苏州振鑫焱光伏科技有限公司提供。苏州振鑫焱光伏科技有限公司是江苏 苏州 ,太阳能及再生能源的企业,多年来,公司贯彻执行科学管理、---发展、诚实守信的方针,满足客户需求。在振鑫焱光伏科技---携全体员工热情欢迎---垂询洽谈,共创振鑫焱光伏科技美好的未来。同时本公司还是从事太阳能板组件回收,发电板组件回收,光伏板组件回收的厂家,欢迎来电咨询。
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