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晶元光电（epistar）简称：es、（联诠、元坤，连勇，国联），广光电（huga），新世纪（genesis

photonics），华上（arimaoptoelectronics）简称：aoc，泰谷光电（tekcore），奇力，钜新，光宏，晶发，视创，洲磊，联胜（hpo），汉光（hl），光磊（ed），鼎元（tyntek）简称：tk，曜富洲技tc，灿圆（formosa epitaxy），国通，联鼎，全新光电（vpec）等。施工过程中，严格按照执行，严谨施工，出现耽误发电和漏电的问题。

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硅的各向---腐蚀液通常用热的碱性溶液。大多使用廉价的浓度约为1%的稀溶液来制备绒面硅，腐蚀温度为70-85℃。为了获得均匀的绒面，还应在溶液中酌量添加醇类如---和等作为络合剂，以加快硅的腐蚀。制备

绒面前，硅片须---行初步表面腐蚀，用碱性或酸性腐蚀液蚀去约20～25μm，在腐蚀绒面后，进行一般的化学清洗。经过表面准备的硅片都不宜在水中久存，

以防沾污，应尽快扩散制结。

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