六、镀减反射膜
抛光硅表面的反射率为35%,为了减少表面反射,提高电池的转换效率,需要沉积一层氮化硅减反射膜。现在工业生产中常采用pecvd设备制备减反射膜。pecvd即等离子增强型化学气相沉积。它的技术原理是利用低温等离子体作能量源,北辰电池片价格,样品置于低气压下辉光放电的阴极上,利用辉光放电使样品升温到预定的温度,然后通入适量的反应气体sih4和nh3,气体经一系列化学反应和等离子体反应,在样品表面形成固态薄膜即氮化硅薄膜。
硅片是半导体材料的基石,它是先通过拉单晶制作成硅棒,然后切割制作成的。由于硅原子的价电子数为4,序数适中,
电路板清洗技术
1、水清洗技术
水清洗技术是今后清洗技术的发展方向,回收电池片价格,须设置纯净水源和排放水处理车间。它以水作为清洗介质,并在水中添加表面活性剂、助剂、缓蚀剂、螯合剂等形成一系列以水为基的清洗剂。可以除去水溶剂(助焊剂为水溶性)和非极性污染物。其清洗工艺特点是:
1) 安全性好,不燃烧、基本---;
2) 清洗剂的配方组成自由度大,对极性与非极性污染物都容易清洗掉,清洗范围广;
3) 多重的清洗机理。水是极性很强的极性溶剂,除了溶解作用外,还有皂化、乳化、置换、分散等共同作用,使用超声比在---中有效得多;
4) 作为一种天然溶剂,其价格比较低廉,回收测试---电池片价格,来源广泛。
九、---设备
在电池片生产过程中,还需要供电、动力、给水、排水、暖通、真空、特汽等---设施。消防和设备对于---安全和持续发展也显得尤为重要。一条年产50mw能力的太阳能电池片生产线,仅工艺和动力设备用电功率就在1800kw左右。工艺纯水的用量在每小时15吨左右,水质要求达到电子级水gb/t11446.1-1997中ew-1级技术标准。工艺冷却水用量也在每小时15吨左右,水质中微粒粒径不宜大于10微米,供水温度宜在15-20℃。真空排气量在300m3/h左右。同时,还需要大约氮气储罐20立方米,氧气储罐10立方米。考虑到特殊气体如---的安全因素,还需要单独设置一个特气间,以---生产安全。另外,---燃烧塔、污水处理站等也是电池片生产的---设施。
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