多晶硅生产流程
(1)石英砂在电弧炉中冶炼提纯到98%并生成工业硅,降级太阳能板电池板多少钱, 其化学反应sio2+c***si+co2↑
(2)为了满足高纯度的需要,必须进一步提纯。把工业硅粉碎并用无水---(hcl)与之反应在一个流化床反应器中,生成拟溶解的(sihcl3)。 其化学反应si+hcl***sihcl3+h2↑ 反应温度为300度,该反应是放热的。同时形成气态混合物(н2,нс1,siнс13,sic14,si)。
(3)第二步骤中产生的气态混合物还需要进一步提纯,需要分解:过滤硅粉,冷凝siнс13,sic14,而气态н2,нс1返回到反应中或排放到---中。然后分解冷凝物siнс13,sic14,净化(多级精馏)。
(4)净化后的采用高温还原工艺,以高纯的sihcl3在h2气氛中还原沉积而生成多晶硅。 其化学反应sihcl3+h2***si+hcl。
多晶硅的反应容器为密封的,用电加热硅池硅棒(直径5-10毫米,长度1.5-2米,数量80根),在1050-1100度在棒上生长多晶硅,直径可达到150-200毫米。 这样大约三分之一的发生反应,并生成多晶硅。剩余部分同н2,нс1,siнс13,sic14从反应容器中分离。这些混合物进行低温分离,或再利用,或返回到整个反应中。气态混合物的分离是复杂的、耗能量大的,从某种程度上决定了多晶硅的成本和该工艺的竞争力。
当电路工作异常,mos功率管vt2或vt4的温升大幅提高,热敏电阻rt的阻值超过约4kω时,ic1内部比较器1的输出将由低电平翻转为高电平,ic1的3脚也随即翻转为高电平状态,致使芯片内部的pwm 比较器、“或”门以及“或非”门的输出均发生翻转,输出级三极管vt1和三极管vt2均转为截止状态。当ic1内的两只功率输出管截止时,图1电路中的vt1、vt3将因基---低电平而饱和导通,vt1、vt3导通后,功率管vt2和vt4将因栅极无正偏压而处于截止状态,逆变电源电路停止工作。
ic1的1脚---电路的vdz1、r5、vd1、c2、r6构成12v输入电源过压保护电路,稳压管vdz1的稳压值决定了保护电路的启动门限电压值,vd1、c2、r6还组成保护状态维持电路,只要发生瞬间的输入电源过压现象,保护电路就会启动并维持一段时间,以---后级功率输出管的安全。考虑到汽车行驶过程中电瓶电压的正常变化幅度大小,通常将稳压管vdz1的稳压值选为15v或16v较为合适。
速沟道igbt也提供方形反向偏压工作区、高175℃结温,还可承受4倍的额定电流。为了要显示它们的---性,这些功率器件也经过100%钳位电感负载测试。
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