多晶硅生产流程
（1）石英砂在电弧炉中冶炼提纯到98%并生成工业硅， 其化学反应sio2+c***si+co2↑
（2）为了满足高纯度的需要，必须进一步提纯。把工业硅粉碎并用无水---（hcl）与之反应在一个流化床反应器中，生成拟溶解的（sihcl3）。 其化学反应si+hcl***sihcl3+h2↑ 反应温度为300度，该反应是放热的。同时形成气态混合物（н2，нс1，siнс13，sic14，si）。
（3）第二步骤中产生的气态混合物还需要进一步提纯，需要分解：过滤硅粉，冷凝siнс13，sic14，而气态н2，нс1返回到反应中或排放到---中。然后分解冷凝物siнс13，sic14，净化（多级精馏）。
（4）净化后的采用高温还原工艺，以高纯的sihcl3在h2气氛中还原沉积而生成多晶硅。 其化学反应sihcl3+h2***si+hcl。
多晶硅的反应容器为密封的，用电加热硅池硅棒（直径5-10毫米，长度1.5-2米，数量80根），在1050-1100度在棒上生长多晶硅，直径可达到150-200毫米。 这样大约三分之一的发生反应，并生成多晶硅。剩余部分同н2，нс1，siнс13，sic14从反应容器中分离。这些混合物进行低温分离，或再利用，或返回到整个反应中。气态混合物的分离是复杂的、耗能量大的，从某种程度上决定了多晶硅的成本和该工艺的竞争力。
用于桥接和开关和二极管
另一个值得探讨的选择是采用fgh30n60---器件。它是一颗饱和电压vce(sat) 只有1.1v的30a/600v igbt。其关断损耗eoff非常高，达10mj ，故只适合于低频转换。一个50毫欧的mosfet在工作温度下导通阻抗rds(on) 为100毫欧。因此在11a时，具有和igbt的vce(sat) 相同的vds。由于这种igbt基于较旧的击穿技术，vce(sat) 随温度的变化不大。因此，这种igbt可降低输出桥中的总体损耗，从而提高逆变器的总体效率。fgh30n60--- igbt在每半周期从一种功率转换技术切换到另一种拓扑的做法也十分有用。igbt在这里被用作拓扑开关。在较快速的转换时则使用常规及快速恢复超结器件。对于1200v的拓扑及全桥结构，前面提到的fgl40n120and是非常适合于新型高频太阳能逆变器的开关。当技术需要二极管时，stealth ii、hyperfast? ii 二极管及碳硅二极管是---的解决方案。逆变器把直流电转换为交流电的效率，目前，欧洲逆变器效率普遍较高，可达到97.2%。
5、启动性能
启动性能是指逆变器带负载启动的能力和动态工作的性能。逆变器在额定负级下应能---其正常启动。一般电阻性负载工作时，逆 变器启动性能较好。但如果是电感
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