硅片,汉中二手旧组件,是制作集成电路的重要材料,二手旧组件价格,通过对硅片进行光刻、离子注入等手段,可以制成各种半导体器件。用硅片制成的芯片有着---的运算能力。科学技术的发展不断推动着半导体的发展。自动化和计算机等技术发展,二手旧组件回收,使硅片(集成电路)这种高技术产品的造价已降到十分低廉的程度。这使得硅片已广泛应用于航空航天、工业、农业和,甚至悄悄进入每一个家庭。
地壳中含量达25.8%的硅元素,为单晶硅的生产提供了取之不尽的源泉。由于硅元素是地壳中储量丰富的元素之一,对太阳能电池这样注定要进入---市场(massmarket)的产品而言,储量的优势也是硅成为光伏主要材料的原因之一。
户外测试平台设计方案
2.2 光伏组件户外性能测试平台设计方案
针对上述光伏组件户外测试要求,建立了如图1所示的框图。利用dsp作为主控制器,通过dac模块控制电子负载等效阻值,使得光伏组件工作于相应工作点,再由dsp自带的12位a/d转换器对负载电压和电流采样。选用了较高线性度的pt100铂热电阻作为温度传感器,测量光伏组件背板温度,二手旧组件多少钱,同时利用硅电池片辐照度传感器,与被测组件共面安装,测量光伏组件吸收的辐照能量。此外,与上位机之间建立了无线局域网,它由测试平台的以太网模块,测试平台路由器,上位机路由器和上位机网络端口组成,使上位机对测试平台远程监控与接收数据。户外测试平台同时还具备了sd卡存储模块,以临时存放近几周的测量数据,实现数据备份。
硅片清洁分类
2.化学清洗
化学清洗是为了除去原子、离子不可见的污染,方法较多,有溶剂萃取、酸洗(---、---、王水、各种混合酸等)和等离子体法等。其中双氧水体系清洗方法效果好,环境污染小。一般方法是将硅片先用成分比为h2so4:h2o2=5:1或4:1的酸性液清洗。清洗液的强氧化性,将有机物分解而除去;用超纯水冲洗后,再用成分比为h2o:h2o2:nh4oh=5:2:1或5:1:1或7:2:1的碱性清洗液清洗,由于h2o2的氧化作用和nh4oh的络合作用,许---属离子形成稳定的可溶性络合物而溶于水;然后使用成分比为h2o:h2o2:hcl=7:2:1或5:2:1的酸性清洗液,由于h2o2的氧化作用和---的溶解,以及氯离子的络合性,许---属生成溶于水的络离子,从而达到清洗的目的。
示踪原子分析和质谱分析表明,采用双氧水体系清洗硅片效果好,同时所用的全部化学试剂h2o2、nh4oh、hcl能够完全挥发掉。用h2so4和h2o2清洗硅片时,在硅片表面会留下约2×1010原子每平方厘米的硫原子,用后一种酸性清洗液时可以完全被清除。用h2o2体系清洗硅片无残留物,有害性小,也有利于工人健康和环境保护。硅片清洗中用各步清洗液处理后,都要用超纯水冲洗。
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