隐裂、热斑、pid效应,是影响晶硅光伏组件性能的三个重要因素。
1. 什么是“隐裂”
隐裂是晶体硅光伏组件的一种较为常见的缺陷,通俗的讲,就是一些肉眼不可见的细微(micro-crack)。晶硅组件由于其自身晶体结构的特性,十分容易发生。
在晶体硅组件生产的工艺流程中,许多环节都有可能造成电池片隐裂。隐裂产生的---原因,回收库存电池片硅片回收采购收购,可归纳为硅片上产生了机械应力或热应力。现在为了降低成本,晶硅电池片向越来越薄的方向发展,降低了电池片防止机械破坏的能力,更容易产生隐裂。
电路板清洗前的准备
一清洗前的准备清洗前必须把电路板上包括跳线插,卡板,电池和ic等所有的接插件小心一一拔出,电位器,五家渠电池片硅片回收,变压器和螺线管线圈(电感线圈)也必须从电路板上卸下。[注意:非电子人员请勿进行此项操作,因若不具备电子---,在拆卸时很容易损坏零部件和电路板,幸好电脑相关的电路板上基本上没有这些元件]。
因此等元件一旦进水,其缝隙或线匝间的水滴很难被压缩气吹扫出来和水分很难被烘干,拆卸时必须逐一做好记录,以---清洗完毕后复原时不致出错。同时顺便检查一下电路板上的电解电容是否有漏液或顶部鼓起的现象,如有,则应将其卸除,并做好记录,回收电池片硅片回收采购收购,以便在电路板清理完毕后换等值的新品。
对于电脑电源的电路板,回收测试---电池片硅片回收收购,则还应检查其印刷电路的焊盘与元件脚之间是否有裂纹活脱焊,---重点检查大功率的元部件,如发现有裂纹活脱焊,应马上补焊,发现一处补焊一处,否则容易遗漏。
2 电路板清洗技术
半水清洗技术
半水清洗主要采用---和去离子水,再加上一定量的活性剂、添加剂所组成的清洗剂。该类清洗介于溶剂清洗和水清洗之间。这些清洗剂都属于---,属于可燃性溶剂,闪点比较高,毒性比较低,使用上比较安全,但是须用水进行漂洗,然后进行烘干。有些清洗剂中添加5%~20%的水和少量表面活性剂,既降低了可燃性,又可使漂洗更为容易。半水清洗工艺特点是:
1) 清洗能力比较强,能同时除去极性污染物和非极性污染物,洗净能力---性较强;
2) 清洗和漂洗使用两种不同性质的介质,漂洗一般采用纯水;
3) 漂洗后要进行干燥。
该技术不足之处在于废液和废水处理是一个较为复杂和尚待解决的问题。
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